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1﹒一种用来在实质上非平面基质上形成预定 图型之可重覆使用的保形光掩模之制作方 法包含下列步骤: 根据实质上非平面基质的形状,形成 一坚硬外壳之步骤; 使用一可去除的光阻物质来被覆此坚 硬外壳之步骤; 根据所欲形成在实质上非平面基质上 的预定图型,除去对应部分的光阻物质之 步骤;以及 于光阻物质上,涂上米透过物质之步 骤。 2﹒依申请专利范围第1项之方法,其中光阻 物质为一金属薄膜,且去除部分金属薄膜 的方式,是先用光阻物质覆盖在此金属薄 膜上,再显影预定的图型至光阻物质上, 然后根据预定的图型来蚀刻拟去除部分金 属薄膜。 3﹒依申请专利范围第2项之方法,其中光透 过物质是经由喷涂或浸染方式,而被覆在 光阻物质之上。 4﹒依申请专利范尔第2项之方法,其中光透 过物质是使用热成形方法,施加在光阻物 质之上。 5﹒依申请专利范围第1项之方法,其中对应 于预定图型的部分光阻物质,是使用凝聚 光源而予以削除的。 6﹒依申请专利范围第5项之方法,其中光阻 物质包括第一有机物质,而光透过薄膜包 括第二有机物质。 7﹒依申请专利范围第6项之方法,其中第一 有机薄膜是经由静电式喷涂而涂覆在坚硬 外壳上,而第二有机薄膜是在第一卡机薄 膜削除后,才施覆在其上。 8﹒一种用来在实质上非平面基质上形成预定 图型之可重覆使用的保形光掩模,包含: 一光阻物质层,形成于相当于实质上 非平面基质之形状的坚硬外壳上,且此光 阻物质层中有部分根据欲形成于此非平面 基层上之预定图型的形状予以去除者;以 及 被覆在光阻物质上的光透过物质。 9﹒依申请专利范围第8项之可重覆使用的保 形光掩模,其中光阻物质为一金属薄膜, 且其金属薄膜的去除部分,是先用光阻物 质覆盖在此金属薄膜上,然后显影预定的 图型至光阻物质上,再根据预定的图型来 侵蚀该部分金属薄膜而形成的。 10﹒依申请专利范围第9项之可重覆使用的 保形光掩模,其中光透过物质是经由喷涂 或浸染过程,而施覆在光阻物质之上。 11﹒依申请专利范围第9项之可重覆使用的 保形光掩模,其中光透过物质是使用热成 形方法,而施加在光阻物质之上。 12﹒依申请专利范围第8项之可重覆使用的 保形光掩模,其中对应于预定图型的部分 光阻物质,是使用凝聚光源而予以削除的。 13﹒依申请专利范围第12项之可重覆使用的 保形光掩模,其中光阻物质包括第一有机 物质,而光透过薄膜包括第二有机物质。 14﹒依申请专利范围第13项之可重覆使用的 保形光掩模,其中第一有机薄膜是经由静 电式喷途而涂覆在坚硬外壳上,而第二有 机薄膜是在第一有机薄膜削除后,才涂覆 在其上。图示简单说明: 图1A为使用本发明之保形光掩模来制 作的天线真的透视图; 图1B为图lA中的天线罩之部分表面图 示; 图2为依据本发明之第一及第二实施 例所制造的保形光掩模的局部横断面; 图3为依据本发明之第三实施例所制 造的保形光掩模的局部横断面;以及 图4为保形光掩馍及三维底层的横断 面图。 |
