| 摘要 |
본 발명은 종축(A)에 대해 배치되고 가스를 함유한 챔버(30)와, 챔버 내의 구속 영역에 자기장을 생성하기 위해 구성된 자기 구속 시스템(36,38)과, 구속 영역 내에 위치된 전자의 싸이클로트론 모션을 구동하는 시간 변화 전기장을 생성하는 전자 싸이클로트론 공진 드라이버(44)와, 제한된 플라즈마(57)를 형성하기 위해 가스와 상호작용하는 피구동 전자를 포함하는 이온 소스(10)가 개시된다. 작동중에, 자기 구속 시스템은 플라즈마 내의 원자의 일부분이 선택된 최종 이온화 상태를 갖는 증가된 이온화된 이온을 형성하기 위해 피구동 전자와 복합 이온화 상호작용을 경험하도록 구속 영역 내에 플라즈마를 구속시킨다. |
