激光诱导CVD设备

摘要

本实用新型公开了一种激光诱导CVD装置，包括真空腔体，抽气系统，真空计，气体输运系统以及激光器。真空腔体是化学反应发生的场所，气体输运系统把发生反应的物质输送到真空腔内，激光给化学反应的发生提供能源，抽气系统保证化学反应的真空环境，真空计测试腔体的真空度。其中的气体输运系统采用脉冲进气和特殊的管道口设计，特殊的管道口设计保证了气体以一定流量均匀的进入真空腔体，配合优化的气体流量和真空度可实现气体以分子流的方式进入真空腔体，脉冲进气可进一步的实现气体的精确控制。本实用新型通过脉冲进气和特殊管道口的设计，在激光的作用下可实现聚合物的单分子层化学气相沉积。

主权项

一种激光诱导CVD设备，其特征在于：包括激光照射单元（1）、真空腔体（2）和气体输送单元（3），所述真空腔体连通抽真空设备获得真空，该真空腔体内设有用于将待沉积薄膜的基片进行固定的样品固定装置（21）；所述气体输送单元包括第一主管道（31）、第二主管道（36）、第一支管（32）、第二支管（33）、第三支管（34）和冰水浴装置（35），所述冰水浴装置包括用于盛装冰水混合物的大烧杯（351），以及放置于该大烧杯的冰水混合物内用于盛装待聚合液体的小烧瓶（352）；所述第一主管道的入口端连接气体源，出口端叉分形成所述第一支管（32）和第二支管（33）的入口端；所述第二支管的出口端以及第三支管的入口端分别接入所述冰水浴装置的小烧瓶内，该第三支管的出口端和所述第一支管的出口端汇合形成所述第二主管道的入口端，该第二主管道的出口端设有气体喷头并伸入所述真空腔体内，该气体喷口正对置于所述样品固定装置上的基片；所述真空腔体上还设有观察窗口，所述激光照射单元发出的激光经该观察窗口照射至置于所述样品固定装置上的基片上。