连续电镀装置

摘要

本发明涉及一种连续电镀装置，并且更具体而言，涉及这样一种连续电镀装置，其包括：框架；驱动辊子，其上缠绕具有预定宽度以及在一个方向上延伸的待电镀目标，其中，该驱动辊子借助于由旋转装置传输的动力进行旋转，并且该驱动辊子被安装在框架中；从动辊子，其安装在框架中并与驱动辊子分离以使得在从动棍子上抓住待电镀的目标；负极辊子，其安装在框架中并在驱动辊子和被动辊子之间沿着待电镀的目标的移动路径被布置，其中，负极辊子接触待电镀的目标以便对待电镀的目标充以负电；以及正极喷嘴单元，其安装在框架中并且将包括正离子的电镀液喷射到负极辊子与待电镀的目标之间的接触区域上。

主权项

一种连续电镀装置，包括：框架；驱动辊子，其布置在所述框架中，缠绕具有预定宽度以及在预定方向上延伸的电镀目标，并且通过从旋转单元接收驱动动力进行旋转；被动辊子，其布置在所述框架中，且与所述驱动辊子分离，其中，所述电镀目标被缠绕在所述被动辊子的周围；负极辊子，其布置在所述框架中，位于所述驱动辊子与所述被动辊子之间，沿所述电镀目标的移动路径被布置，并接触所述电镀目标以对所述电镀目标充以负电；以及正极喷嘴单元，其安装在所述框架中，且将包含正极离子的电镀液喷射至所述负极辊子与所述电镀目标之间的接触部分,其中，挡板被布置在所述负极辊子与所述正极喷嘴单元之间，以防止从所述正极喷嘴单元喷射出的电镀液与所述负极辊子之间的直接接触，并导向所述电镀液以接触所述负极辊子与所述电镀目标之间的接触部分。