SUBSTRATE PROCESSING DEVICE SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

摘要

CARE법을 이용한 기판 처리 장치를 개선한다. 처리액의 존재하에서 기판과 촉매를 접촉시켜, 기판의 피처리 영역을 연마하기 위한 기판 처리 장치는, 기판을 보유 지지하도록 구성된 기판 보유 지지부와, 촉매를 보유 지지하도록 구성된 촉매 보유 지지부와, 기판의 피처리 영역과 촉매가 접촉한 상태에서, 기판 보유 지지부와 촉매 보유 지지부를 상대적으로 이동시키도록 구성된 구동부를 구비한다. 촉매는, 기판보다 작다.