一种基于离子束刻蚀的打标方法及应用

摘要

本发明涉及一种基于离子束刻蚀的打标方法及应用，所述打标方法包括如下步骤：在基片表面涂覆一层光刻胶层；借助图形化的掩膜版，利用紫外光对光刻胶层进行曝光；去除图形化的掩膜版，得到图形化的光刻胶层；借助图形化的光刻胶层，使用离子源发射的离子束对基片的待标记处进行刻蚀；剥离图形化的光刻胶层，得到图形化的基片，实现对基片的标记。本发明通过离子束刻蚀的方法对产品进行打标，刻蚀出的标记线条侧壁几乎是垂直的，不会产生过度的线条展宽，使得最终获得的标记线条精度可达到几十纳米级，远高于激光打标机几十微米级的线条精度，从而能够明显提高打标的精度。

主权项

一种基于离子束刻蚀的打标方法，其特征在于，所述打标方法包括如下步骤：S1：在基片表面涂覆一层光刻胶层；S2：借助图形化的掩膜版，利用紫外光对光刻胶层进行曝光；S3：去除图形化的掩膜版，得到图形化的光刻胶层；S4：借助图形化的光刻胶层，使用离子源发射的离子束对基片的待标记处进行刻蚀；S5：剥离图形化的光刻胶层，得到图形化的基片，实现对基片的标记。