发明名称 在半导体基材表面一步法化学接枝有机膜的方法
摘要 本发明提供了一种在半导体基材表面一步法化学接枝有机膜的方法,其包括如下步骤:制备化学镀液;将半导体基材置于所述化学镀液中,在0~30℃下进行静置,完成有机膜在半导体基材表面的接枝。与现有技术相比,本发明具有如下的有益效果:1、本发明的方法中,在F<sup>‑</sup>的作用下,不需要其他的外加设备和温度条件,即可在半导体基材上制备出均一的厚有机膜;2、步骤简单,易于操作,成本较低,适用于半导体领域和工业生产。
申请公布号 CN106206252A 申请公布日期 2016.12.07
申请号 CN201610510595.4 申请日期 2016.06.30
申请人 上海交通大学 发明人 张珊珊;李明;高兰雅;张俊红
分类号 H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人 郭国中
主权项 一种在半导体基材表面一步法化学接枝有机膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:制备化学镀液;将半导体基材置于所述化学镀液中,在0~30℃下进行静置,完成有机膜在半导体基材表面的接枝。
地址 200240 上海市闵行区东川路800号