发明名称 双面膜曝光机的帧收放结构
摘要 本实用新型涉及柔性电子产品应用技术领域,尤其是双面膜曝光机的帧收放结构,包括有上料单元、曝光单元及收料单元,上料单元设置在曝光单元的上料端,上料单元包括有上料基座,上料基座上设有上料辊以及上料缓存浮动辊,在上料辊释放基材的一端设有两根上料从动辊,两根上料从动辊上面分别设有第一压板和第二压板,在第一压板和第二压板中间设有第一切边单元,上料缓存浮动辊的进出侧分别设有上料张力辊和上料辅助从动辊;收料单元设置在曝光单元的出料端,收料单元包括有收料底座、收料基座,收料基座设有下料辊及第二切边单元,收料底座上设有收料缓存单元。实现一次双面覆膜曝光,且达到一帧一帧连续曝光工作,提升工作效率及工作质量。
申请公布号 CN205787590U 申请公布日期 2016.12.07
申请号 CN201620464560.7 申请日期 2016.05.22
申请人 东莞市友辉光电科技有限公司 发明人 余燕青;陈泽强
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 东莞市创益专利事务所 44249 代理人 李卫平
主权项 双面膜曝光机的帧收放结构,包括有上料单元(1)、曝光单元(2)及收料单元(3),其特征在于:所述上料单元(1)设置在曝光单元(2)的上料端,上料单元(1)包括有上料基座(11),上料基座(11)上设有上料辊(12),在上料辊(12)释放基材的一端设有两根上料从动辊(13),两根上料从动辊(13)上面分别设有第一压板(14)和第二压板(15),在第一压板(14)和第二压板(15)中间设有第一切边单元(16),该第一切边单元(16)给予基材和基膜端头切整齐,保证基材和基膜端头拼接在同一直线上;以及一上料缓存浮动辊(17),该上料缓存浮动辊(17)的进出侧分别设有上料张力辊(171)和上料辅助从动辊(172),基材缓存是上料缓存浮动辊(17)在上料张力辊(171)和上料辅助从动辊(172)中间往下沉,使基材拉长存放在上料张力辊(171)和上料辅助从动辊(172)之间;所述收料单元(3)设置在曝光单元(2)的出料端,收料单元(3)包括有收料底座(34)、收料基座(31),收料基座(31)上设有下料辊(32)及第二切边单元(33),收料底座(34)上设有收料缓存单元(35),曝光后的基材进入本结构时依次经过收料缓存单元(35)、第二切边单元(33)后收卷在下料辊(32)上;收料缓存单元(35)包括有收料浮动辊(351)、收料张力辊(352)和收料辅助从动辊(353),收料张力辊(352)和收料辅助从动辊(353)分别设置在收料浮动辊(351)的进出侧,基材缓存是收料浮动辊(351)在收料张力辊(352)和收料辅助从动辊(353)中间往下沉,使基材拉长存放在收料张力辊(352)和收料辅助从动辊(353)之间。
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