发明名称 |
用于Te-N共掺氧化锌薄膜的制备方法 |
摘要 |
本发明公开一种用于Te‑N共掺氧化锌薄膜的制备方法,其包括将衬底进行清洗和表面前处理;将衬底放入原子层沉积设备的反应腔室中;对衬底、管道及腔室进行加热;然后依次分别进行锌源、掺杂源Te、掺杂N源和氧源的沉积。本发明提供的用于Te‑N共掺氧化锌薄膜的制备方法,通过ALD逐层循环的生长方式生长Te‑N共掺的氧化锌薄膜,而且方法简单,利用原子层沉积单层循环生长的特点,在氧化锌薄膜生长的过程中实现均匀的在整个薄膜结构中进行掺杂,共掺后的氧化锌薄膜,有利于促进p型电导的形成。 |
申请公布号 |
CN103866270B |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201210531988.5 |
申请日期 |
2012.12.11 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
卢维尔;夏洋;李超波;解婧;张阳 |
分类号 |
C23C16/40(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/40(2006.01)I |
代理机构 |
北京华沛德权律师事务所 11302 |
代理人 |
刘丽君 |
主权项 |
一种用于Te‑N共掺氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,包括:将衬底进行清洗和表面前处理;将衬底放入原子层沉积设备的反应腔室中;对衬底、管道及腔室进行加热;然后依次分别进行锌源、掺杂源Te、掺杂N源和氧源的沉积;所述衬底为经浓硫酸和双氧水处理,并经超纯水超声过的硅片、蓝宝石或玻璃,衬底表面带有羟基;所述锌源是含锌的烷基化合物或含锌的卤化物,所述氧源是水蒸汽或氧气等离子体;所述掺杂N源为N<sub>2</sub>O、N<sub>2</sub>、NO、NO<sub>2</sub>或NH<sub>3</sub>等离子体;所述含锌的卤化物是氯化锌ZnCl<sub>2</sub>,所述含锌的烷基化合物是二乙基锌Zn(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>2</sub>或二甲基锌Zn(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所 |