发明名称 | 备用基准的动态创建 | ||
摘要 | 本发明涉及备用基准的动态创建。在样本上形成多个参考基准,在用于处理样本的带电粒子束设施的样本上。当一个基准由于带电粒子束被降级时,使用第二基准来创建一个或多个附加基准。 | ||
申请公布号 | CN106206224A | 申请公布日期 | 2016.12.07 |
申请号 | CN201610366537.9 | 申请日期 | 2016.05.30 |
申请人 | FEI 公司 | 发明人 | R.L.瓦绍尔 |
分类号 | H01J37/147(2006.01)I;H01J37/26(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/147(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 徐红燕;陈岚 |
主权项 | 一种对准带电粒子束用于处理的方法,包括:在接近感兴趣区的位置处创建至少一个主要基准,所述至少一个主要基准通过图像识别可辨识;创建至少一个第一备用基准;通过使用所述至少一个主要基准相对于所述感兴趣区定位所述带电粒子束来采用所述束处理所述感兴趣区;以及通过使用所述至少一个备用基准追踪所述感兴趣区的位置来继续处理所述感兴趣区。 | ||
地址 | 美国俄勒冈州 |