发明名称 Verfahren zur Beschichtung eines Substrats und Beschichtung für ein Substrat
摘要 Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung eines Substrats (1) unter Verwendung eines Plasmas, wobei wenigstens eine Oberfläche (4, 6) des Substrats (1) in einem ersten Schritt mittels des Plasmas aktiviert und in einem zweiten Schritt im Plasma ein Silan auf die Oberfläche (4, 6) des Substrats (1) aufpolymerisiert wird, und wobei anschließend auf die Oberfläche (4, 6) des Substrats (1) ein Elastomer (2) aufgebracht wird. Erfindungsgemäß ist es vorgesehen, dass ein Silan der allgemeinen Formel R1-Si-(OY)3 verwendet wird, wobei R1 eine funktionelle Gruppe darstellt, ausgewählt aus der Gruppe Amino-, Vinyl-, Chlorid-, Hydroxyl-, Methyl-, Cyano-, Epoxid-, Isocyanat- und Thiol-Gruppen und Y einen Alkylrest mit 1 bis 3 C-Atomen umfasst.
申请公布号 DE102015113780(A1) 申请公布日期 2017.03.09
申请号 DE201510113780 申请日期 2015.08.20
申请人 Plasma Electronic GmbH 发明人 Stöhr, Uwe
分类号 B05D7/00 主分类号 B05D7/00
代理机构 代理人
主权项
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