发明名称 |
CIGS半導体前駆体膜の製造方法およびそれを用いたCIGS半導体膜の製造方法並びにそれらを用いたCIGS太陽電池の製造方法 |
摘要 |
【課題】CIGS太陽電池の光吸収層に用いるCIGS半導体膜のボイド発生を効果的に抑制することができる、CIGS半導体前駆体膜の製造方法およびそれを用いたCIGS半導体膜の製造方法並びにそれらを用いたCIGS太陽電池の製造方法を提供する。【解決手段】ガリウムとセレンとを含む層Aを固相状態で基板1に直接または他の層を介して積層する第1の積層工程と、インジウムとセレンとを含む層Bとを固相状態で層Aに直接または他の層を介して積層する第2の積層工程と、銅とセレンとを含む層Cを固相状態で層Bに直接または他の層を介して積層する第3の積層工程とを有し、上記第1の積層工程および第2の積層工程において、基板1の温度変化ΔTが0℃≦ΔT≦10℃の式を満たすよう、温度制御してCIGS半導体前駆体膜3を製造するようにした。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP2017050337(A) |
申请公布日期 |
2017.03.09 |
申请号 |
JP20150170835 |
申请日期 |
2015.08.31 |
申请人 |
日東電工株式会社 |
发明人 |
西井 洸人;椙田 由考;鞍田 智宏;山本 祐輔;渡邉 太一;安井 智史;寺地 誠喜 |
分类号 |
H01L31/18;H01L31/0749 |
主分类号 |
H01L31/18 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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