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发明名称
感放射線性組成物及びパターン製造方法
摘要
感度、保存安定性、塗布性、現像性、及び安全性に優れ、露光及び現像により、異物の発生が抑制されたパターンを形成することができる感放射線性組成物及びそれを用いたパターン製造方法を提供する。本発明に係る感放射線性組成物は、下記一般式(1)で表される化合物を含有する。式中、R1は、水素原子又はヒドロキシル基を表し、R2及びR3は、独立に水素原子又はC1〜C3のアルキル基を表し、R4及びR5は、独立にC1〜C3のアルキル基を表す。
申请公布号
JPWO2015046332(A1)
申请公布日期
2017.03.09
申请号
JP20150539332
申请日期
2014.09.25
申请人
東京応化工業株式会社
发明人
信太 勝;植松 照博
分类号
G03F7/004
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
主权项
地址
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