发明名称 芯片散热用镓液态金属合金及其制造方法
摘要 本发明涉及液态金属合金。芯片散热用镓液态金属合金,是采用下述工艺制成的金属合金,步骤一,对原料进行配比称重,原料按以下质量比称重:镓25%~60%、铟10%~30%、铋10%~30%、硼15%~35%、铯5%~40%、钼5%~25%;步骤二,合金熔炼:将锅炉升温至300°,在坩埚中依次放入铟、铋、硼和铯,将坩埚放入锅炉中加热;步骤三,将锅炉的温度调整为250°,然后在坩埚中加入钼,静置10min‑30min,熔化后将表层氧化物除去并搅拌;步骤四,将锅炉的温度调整为150°,然后在坩埚中加入镓;步骤五,自然冷却至室温,得到合金成品。本发明优化了传统的配方能够降低熔点的同时提高散热效果。
申请公布号 CN106609332A 申请公布日期 2017.05.03
申请号 CN201611102378.8 申请日期 2016.12.05
申请人 上海阿莱德实业股份有限公司 发明人 李延民;程亚东
分类号 C22C30/00(2006.01)I;C22C1/02(2006.01)I;C22C28/00(2006.01)I 主分类号 C22C30/00(2006.01)I
代理机构 上海三和万国知识产权代理事务所(普通合伙) 31230 代理人 陈伟勇
主权项 芯片散热用镓液态金属合金,其特征在于,是采用下述工艺制成的金属合金,步骤一,对原料进行配比称重,原料按以下质量比称重:镓25%~60%、铟10%~30%、铋10%~30%、硼15%~35%、铯5%~40%、钼5%~25%;步骤二,合金熔炼:将锅炉升温至300°,在坩埚中依次放入铟、铋、硼和铯,将坩埚放入锅炉中加热,熔化后将表层氧化物除去并搅拌;步骤三,将锅炉的温度调整为250°,然后在坩埚中加入钼,静置10min‑30min,熔化后将表层氧化物除去并搅拌;步骤四,将锅炉的温度调整为150°,然后在坩埚中加入镓,熔化后将表层氧化物除去并搅拌;步骤五,取出坩埚,将坩埚内的物质浇铸到烘干过的模具内,自然冷却至室温,得到合金成品。
地址 201419 上海市奉贤区海湾旅游区奉新北路22号806室