发明名称 |
芯片散热用镓液态金属合金及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及液态金属合金。芯片散热用镓液态金属合金,是采用下述工艺制成的金属合金,步骤一,对原料进行配比称重,原料按以下质量比称重:镓25%~60%、铟10%~30%、铋10%~30%、硼15%~35%、铯5%~40%、钼5%~25%;步骤二,合金熔炼:将锅炉升温至300°,在坩埚中依次放入铟、铋、硼和铯,将坩埚放入锅炉中加热;步骤三,将锅炉的温度调整为250°,然后在坩埚中加入钼,静置10min‑30min,熔化后将表层氧化物除去并搅拌;步骤四,将锅炉的温度调整为150°,然后在坩埚中加入镓;步骤五,自然冷却至室温,得到合金成品。本发明优化了传统的配方能够降低熔点的同时提高散热效果。 |
申请公布号 |
CN106609332A |
申请公布日期 |
2017.05.03 |
申请号 |
CN201611102378.8 |
申请日期 |
2016.12.05 |
申请人 |
上海阿莱德实业股份有限公司 |
发明人 |
李延民;程亚东 |
分类号 |
C22C30/00(2006.01)I;C22C1/02(2006.01)I;C22C28/00(2006.01)I |
主分类号 |
C22C30/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海三和万国知识产权代理事务所(普通合伙) 31230 |
代理人 |
陈伟勇 |
主权项 |
芯片散热用镓液态金属合金,其特征在于,是采用下述工艺制成的金属合金,步骤一,对原料进行配比称重,原料按以下质量比称重:镓25%~60%、铟10%~30%、铋10%~30%、硼15%~35%、铯5%~40%、钼5%~25%;步骤二,合金熔炼:将锅炉升温至300°,在坩埚中依次放入铟、铋、硼和铯,将坩埚放入锅炉中加热,熔化后将表层氧化物除去并搅拌;步骤三,将锅炉的温度调整为250°,然后在坩埚中加入钼,静置10min‑30min,熔化后将表层氧化物除去并搅拌;步骤四,将锅炉的温度调整为150°,然后在坩埚中加入镓,熔化后将表层氧化物除去并搅拌;步骤五,取出坩埚,将坩埚内的物质浇铸到烘干过的模具内,自然冷却至室温,得到合金成品。 |
地址 |
201419 上海市奉贤区海湾旅游区奉新北路22号806室 |