发明名称 一种反极性AlGaInP基发光二极管及其制造方法
摘要 一种反极性AlGaInP基发光二极管及其制造方法,属于光电子技术领域,先制成发光二极管外延片,并在外延片上制作一全反射镜结构层;将具有全反射镜结构层的外延片与永久衬底通过一金属粘结层键合;经去除临时衬底、缓冲层、阻挡层和n型砷化镓层,将第一粗化层表面粗化;在第一粗化层和n型砷化镓欧姆接触层上制作图案化的扩展电极;以掩膜保护已有的图案化扩展电极,将掩膜保护层以外区域的第一粗化层和n型砷化镓欧姆接触层去除,并将第二粗化层粗化;主电极形成于第二粗化层上。本发明利用粗化外延层结构和掩膜保护,提高了电极与外延层的附着性和完整性,确保发光器件工作电压稳定,极大地提升了产品的质量和良率。
申请公布号 CN104167477B 申请公布日期 2017.05.03
申请号 CN201410355102.5 申请日期 2014.07.24
申请人 扬州乾照光电有限公司 发明人 陈亮;杨凯;马祥柱;白继锋;陈宝;李忠辉
分类号 H01L33/14(2010.01)I;H01L33/02(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/14(2010.01)I
代理机构 扬州市锦江专利事务所 32106 代理人 江平
主权项 一种反极性AlGaInP基发光二极管,包括设置在Si衬底一面的粘结层,在所述粘结层上依次设置反射镜层、p‑GaP窗口层、p‑AlGaInP限制层、MQW多量子阱有源层和n‑AlGaInP限制层,在Si衬底的另一面设置p电极和n扩展电极,所述n扩展电极与p电极电学连接,在所述n‑AlGaInP限制层上设置n主电极;其特征在于在所述n‑AlGaInP限制层上还图形化地设置n型砷化镓欧姆接触层,在所述n型砷化镓欧姆接触层上通过第一粗化n‑AlGaInP层设置n扩展电极。
地址 225009 江苏省扬州市维扬路108号