发明名称 |
检测金属层间断裂的测试结构 |
摘要 |
本实用新型提供一种检测金属层间断裂的测试结构,包括:多层金属线层,包括由下而上依次叠放的第一金属线层M1至第N金属线层;金属插塞,位于多层金属线层中相邻两金属线层之间,适于连接相邻两金属线层;金属层间介质,位于多层金属线层中相邻两金属线层之间,适于隔离相邻两金属线层以及相邻两金属线层之间的金属插塞;测试焊盘,通过金属连线连接于多层金属线层中的每一层金属线层的两端。本实用新型可有效检测出金属层间断裂的问题,且可以通过测量推断出断裂位于哪一层金属层。 |
申请公布号 |
CN206134676U |
申请公布日期 |
2017.04.26 |
申请号 |
CN201621197189.9 |
申请日期 |
2016.11.03 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
陈林 |
分类号 |
H01L23/544(2006.01)I;G01N27/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/544(2006.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人 |
王华英 |
主权项 |
一种检测金属层间断裂的测试结构,位于晶圆切割道内,适于检测所述金属层的完整性,其特征在于,所述测试结构包括:多层金属线层,包括由下而上依次叠放的第一金属线层至第N金属线层;金属插塞,位于所述多层金属线层中相邻两金属线层之间,适于连接所述相邻两金属线层;金属层间介质,位于所述多层金属线层中相邻两金属线层之间,适于隔离所述相邻两金属线层以及所述相邻两金属线层之间的所述金属插塞;测试焊盘,通过金属连线连接于所述多层金属线层中的每一层金属线层的两端。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号 |