发明名称 一种离子镀制备TiAlSiCN涂层的方法
摘要 本发明涉及一种多元素涂层的制备方法,采用多弧离子镀TiAlSiCN涂层,属于先进材料制备领域。将前处理后的基体放入镀膜机真空室进行离子清洗、制备TiN过渡涂层、制备TiAlSiCN涂层,再对制备好的TiAlSiCN涂层进行抛光处理。本发明所述的方法制备出的TiAlSiCN超硬涂层,在一定程度上能解决目前机械加工中由于刀具硬度不高而引起的刀具寿命短的问题。
申请公布号 CN106591784A 申请公布日期 2017.04.26
申请号 CN201611038916.1 申请日期 2016.11.12
申请人 常州大学 发明人 孔德军;张棱;刘伟;朱首宇
分类号 C23C14/32(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I 主分类号 C23C14/32(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种离子镀制备TiAlSiCN涂层的方法,包括对硬质合金基体前处理的步骤、离子清洗的步骤、制备TiN过渡涂层的步骤、制备TiAlSiCN涂层的步骤和对制备好的TiAlSiCN涂层进行抛光处理的步骤,其特征在于,所述制备TiAlSiCN涂层的步骤为:制备TiN过渡涂层后继续通入N<sub>2</sub>,打开Ar流量阀,控制Ar与N<sub>2</sub>流量之比为1:2,向真空室内输入混合气体,保持真空室内气压1.0~1.2Pa,AlTi靶通电,调整偏压为130V,电流180A;SiTi靶通电,偏置电压80V,电流160A;TiC靶通电,偏置电压130V,电流13~14A;保持此状态,沉积时间1.5h。
地址 213164 江苏省常州市武进区滆湖路1号