光刻设备和制造器件的方法

摘要

使用EUV辐射的光刻设备具有被配置用于提供科勒照射的照射器。照射器包括具有多个可独立导向的反射器的场反射镜(422)和具有多个光瞳琢面(4241‑1至4241‑M)的光瞳反射镜(424)，其中可独立导向的反射器被分成多组相邻的可独立导向的反射器、以形成虚拟场琢面(50)，光瞳琢面投影虚拟场琢面的像、以填充照射场(IS)。可独立导向的反射器被控制在非激活状态和至少一个激活状态之间，以便控制传送至衬底的剂量。

主权项

一种光刻设备，包括具有多个可独立导向的反射器的场反射镜和具有多个光瞳琢面的光瞳反射镜、控制器和定位器，所述控制器被配置用于控制可独立导向的反射器、以将期望的剂量分布传送至衬底的目标部分，所述定位器被配置用于在衬底被曝光的同时沿扫描方向扫描衬底。