一种钙钛矿薄膜的低压化学沉积的设备

摘要

本实用新型涉及一种钙钛矿薄膜的低压化学沉积的设备，包括主腔体，在主腔体内分别设置有两个前驱物加热台以及基底固定槽，在前驱物加热台上分别设置有前驱物储存盒，在基底固定槽上放置有若干组待沉积薄膜的基底，每组基底背靠背紧贴地放置有两片基底，两片基底的待沉积薄膜的表面各自朝向主腔体的一端；在主腔体的左右两端分别连通带有载气进气控制阀的载气管道，在主腔体上还连通有抽真空装置，在主腔体上还设置有给基底加热的主腔体加热装置；在两端的载气管道上分别连通有溶剂蒸发装置。本实用新型采用从主腔室的两端同时进气以及基底“背靠背”的排布方式使得使用该方法制备钙钛矿薄膜的速率提高至了现有方法的两倍。

主权项

一种钙钛矿薄膜的低压化学沉积的设备，包括主腔体（26），其特征在于，在所述主腔体（26）内分别设置有两个前驱物加热台（9）和（13）以及基底固定槽（10），所述两个前驱物加热台（9）和（13）分别靠近主腔体（26）的左右两端部，所述基底固定槽（10）设置在两个前驱物加热台（9）和（13）之间，在所述前驱物加热台（9）和（13）上分别设置有前驱物储存盒（8）和（12），在所述基底固定槽（10）上放置有若干组待沉积薄膜的基底（11），每组基底（11）背靠背紧贴地放置有两片基底（11），所述两片基底（11）的待沉积薄膜的表面各自朝向主腔体（26）的一端；在所述主腔体（26）的左右两端分别连通带有载气进气控制阀（1）和 （22）的载气管道，在所述主腔体（26）上还连通有抽真空装置，在所述主腔体（26）上还设置有给基底（11）加热的主腔体加热装置；在两端的载气管道上分别连通有溶剂蒸发装置。