一种制备光学防伪元件的方法

摘要

本发明提供一种制备光学防伪元件的方法，其克服了现有技术中在制备光学防伪元件时误差大、可靠性低等缺陷。该方法包括：在基材的表面上形成表面浮雕结构层，该表面浮雕结构层包括至少两个区域，其中各个所述区域中的表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值互不相同；至少在表面浮雕结构层的其中一个所述区域的至少一部分上形成镀层；在全部或部分所述镀层上形成缓冲层；以及将形成所述缓冲层后的所述光学防伪元件置于能够与所述缓冲层和所述镀层进行反应以使所述缓冲层和所述镀层减薄甚至消失的环境中进行反应，直到得到所需的光学防伪元件为止，其中所述缓冲层在单位时间内的厚度减薄速率小于所述镀层在单位时间内的厚度减薄速率。

主权项

一种制备光学防伪元件的方法，该方法包括：在基材的表面上形成表面浮雕结构层，所述表面浮雕结构层包括至少两个区域，其中各个所述区域中的所述表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值互不相同；至少在所述表面浮雕结构层的其中一个所述区域的至少一部分上形成镀层；以及在全部或部分所述镀层上形成缓冲层，其特征在于，该方法还包括：将形成所述缓冲层后的所述光学防伪元件置于能够与所述缓冲层和所述镀层进行反应以使所述缓冲层和所述镀层减薄甚至消失的环境中进行反应，直到得到所需的光学防伪元件为止，其中所述缓冲层在单位时间内的厚度减薄速率小于所述镀层在单位时间内的厚度减薄速率。