发明名称 |
器件、高电子迁移率晶体管及控制其工作的方法 |
摘要 |
器件、高电子迁移率晶体管及控制其工作的方法。一种器件包括发送和接收电子电荷的源和漏。所述器件还包括提供所述源与所述漏之间的传导路径的至少一部分的第一叠层和第二叠层,其中,所述第一叠层包括第一极性的第一氮化镓(GaN)层,所述第二叠层包括第二极性的第二氮化镓(GaN)层,并且其中,所述第一极性不同于所述第二极性。至少一个栅在工作上连接到至少所述第一叠层以控制所述电子电荷的传导,使得在所述器件的工作期间,所述传导路径包括形成在所述第一GaN层中的第一二维电子气(2DEG)沟道以及形成在所述第二GaN层中的第二2DEG沟道。 |
申请公布号 |
CN104051519B |
申请公布日期 |
2017.04.12 |
申请号 |
CN201410096339.6 |
申请日期 |
2014.03.14 |
申请人 |
三菱电机株式会社 |
发明人 |
张坤好;冯沛杰;马瑞 |
分类号 |
H01L29/778(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/778(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
吕俊刚;刘久亮 |
主权项 |
一种半导体器件,该半导体器件包括:源,该源发送电子电荷;漏,该漏接收所述电子电荷;第一叠层,该第一叠层提供所述源与所述漏之间的传导路径的至少一部分,其中,所述第一叠层包括第一极性的第一组层,该第一组层包括所述第一极性的第一氮化镓GaN层;第二叠层,该第二叠层提供所述源与所述漏之间的所述传导路径的至少一部分,其中,所述第二叠层包括第二极性的第二组层,该第二组层包括所述第二极性的第二氮化镓GaN层,并且其中,所述第一极性不同于所述第二极性;以及至少一个栅,该至少一个栅在工作上连接到至少所述第一叠层以控制所述电子电荷的传导,使得在所述半导体器件的工作期间,所述传导路径包括形成在所述第一GaN层中的第一二维电子气2DEG沟道以及形成在所述第二GaN层中的第二2DEG沟道;中间层,该中间层层叠在所述第一叠层与所述第二叠层之间。 |
地址 |
日本东京都 |