掩模版台环境中的气流最优化

摘要

本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。

主权项

一种光刻设备，包括：照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束；可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构被配置为支撑图案形成装置，所述图案形成装置被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底台，所述衬底台被配置为保持衬底；投影系统，所述投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；以及板，所述板定位在可移动台和投影系统之间，包括：第一表面和第二表面，所述第二表面基本平行于所述第一表面并且与所述第一表面相对；以及开口，所述开口从第一表面延伸到第二表面，并且包括第一侧壁和第二侧壁，其中，所述板被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴，所述板包括在所述板的第一表面上的气体入口开口的V形阵列或气体出口开口的V形阵列；所述V形阵列的顶点指向远离开口的方向；以及所述V形阵列的对称线基本上与开口的对称线和可移动台的扫描方向对齐。