| 发明名称 | EUV保护膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种EUV保护膜及其制造方法，其中EUV保护膜，包括第一层、第二层以及层状材料。第二层形成于第一层上。层状材料形成于第一层与第二层之间。层状材料的材料包括石墨烯、氮化硼、过渡金属二硫属化物或其组合。本发明提供的EUV保护膜及其制造方法，具有较佳的导热性、机械强度以及韧性，进而提高使用寿命并减少工艺成本。 | ||
| 申请公布号 | CN106556968A | 申请公布日期 | 2017.04.05 |
| 申请号 | CN201610506548.2 | 申请日期 | 2016.06.30 |
| 申请人 | 炬力奈米科技有限公司 | 发明人 | 邱壬官;叶昭辉 |
| 分类号 | G03F1/22(2012.01)I;G03F1/48(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/22(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 马雯雯;臧建明 |
| 主权项 | 一种保护膜，用以保护极紫外光掩膜，其特征在于，所述保护膜包括：第一层；第二层，形成于所述第一层上；以及层状材料，形成于所述第一层与所述第二层之间，其中所述层状材料的材料包括石墨烯、氮化硼、过渡金属二硫属化物或其组合。 | ||
| 地址 | 中国台湾高雄市苓雅区武智街11巷8号 | ||