一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源及其真空镀膜装置

摘要

本实用新型一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源及其真空镀膜装置，包括填料容器、开关及蒸发容器，该填料容器与所述蒸发容器连接，所述开关设置在填料容器与蒸发容器之间用于控制填料容器中的物料进入蒸发容器，该蒸发容器内设置有加热元件，该加热元件用于将进入蒸发容器内的物料加热蒸发为蒸汽流，该蒸汽流用于基板上的镀膜。本实用新型线性镀膜源通过在基板布置至少两个以上的镀膜源，能够在更大面积的基板上沉积均匀的薄膜和不同种类的薄膜，填料容器设置在真空腔室外，可以不间断的填充物料、或者更换物料种类，通过开关控制镀膜源的流量大小，通断，决定基板各个区域镀膜的厚度和种类。

主权项

一种适用于大面积镀膜的线性镀膜源，其特征在于：包括填料容器、开关及蒸发容器，该填料容器与所述蒸发容器连接，所述开关设置在填料容器与蒸发容器之间用于控制填料容器中的物料进入蒸发容器，该蒸发容器内设置有加热元件，该加热元件用于将进入蒸发容器内的物料加热蒸发为蒸汽流，该蒸汽流用于基板上的镀膜。