发明名称 反射防止膜の製造方法
摘要 【課題】優れた耐擦傷性を有し屈折率の変動が少ない低屈折率シリカエアロゲル膜を有する反射防止膜を、シリカエアロゲル膜の表面にマクロクラックが発生しないように製造する方法、並びにこの方法により形成された反射防止膜、及びこの反射防止膜を有する光学素子を提供する。【解決手段】シリカエアロゲル膜を少なくとも一層有する反射防止膜の製造方法であって、シリカエアロゲル膜は、アルコキシシランを塩基性触媒下で加水分解及び縮重合して調製したアルカリ性ゾルに、酸性溶液を添加して得られたメジアン径100 nm以下の第一の酸性ゾル、及びアルコキシシランを酸性触媒下で加水分解及び縮重合して得られたメジアン径10 nm以下の第二の酸性ゾルを混合してなる混合ゾルを、基材上に塗布し、混合ゾルが乾燥する前に、35℃以上70%RH以上の環境に載置し、30分以上保存する湿度処理を施して形成することを特徴とする反射防止膜の製造方法。【選択図】図1
申请公布号 JP2017058428(A) 申请公布日期 2017.03.23
申请号 JP20150181388 申请日期 2015.09.15
申请人 リコーイメージング株式会社 发明人 玉田 剛章;佐々木 直人;中山 寛之
分类号 G02B1/115;B05D5/06;B05D7/24;B32B27/00;B32B27/14;G02B1/14 主分类号 G02B1/115
代理机构 代理人
主权项
地址