| 摘要 |
表示装置（１）の製造方法において、基板（１０）の上方に第１の電極層（１２）を形成する工程と、第１の電極層（１２）の上方に平坦化膜（１４）を形成する工程と、平坦化膜（１４）にコンタクトホールを形成する工程と、平坦化膜（１４）およびコンタクトホールの上方に第２の電極層（１６）を形成する工程と、第２の電極層（１６）の上方に発光層（２０）を形成する工程と、発光層（２０）の上方に上部電極層（２６）を形成する工程と、コンタクトホールにおいて第１の電極層（１２）と第２の電極層（１６）とが接触していない画素において、基板（１０）側からコンタクトホール以外の位置の第１の電極層（１２）にレーザー光を照射して、レーザー光を照射した位置の第１の電極層（１２）を第２の電極層（１６）に接続する工程とを含む。 |
