发明名称 炭素膜を備える構造体及び炭素膜を形成する方法
摘要 本発明の一実施形態における構造体は、基材表面の形状に依存することなく炭素膜の表面に微細な凹凸構造を形成する。この構造体は、基材と、この基材上に形成され、炭素、又は、炭素及び水素を含む炭素膜と、を備え、この炭素膜の表面の少なくとも一部は、酸素及び/又はArのイオン及び/又はラジカル(例えば、プラズマ)を照射することによって形成された微細な凹凸構造を有する。この微細な凹凸構造は、十点平均粗さRzが20nm以上である。
申请公布号 JPWO2015115399(A1) 申请公布日期 2017.03.23
申请号 JP20150559940 申请日期 2015.01.27
申请人 太陽誘電ケミカルテクノロジー株式会社 发明人 澁澤 邦彦
分类号 C23C16/27;C01B32/15;C01B32/18;C01B32/182;C23C14/06;C23C14/58;C23C16/56 主分类号 C23C16/27
代理机构 代理人
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