| 发明名称 | 曝光设备及曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种曝光设备及曝光方法。本发明的曝光设备包括一掩膜板、设于所述掩膜板左侧下方的第一平台、设于所述掩膜板右侧下方的第二平台、设于所述掩膜板右侧上方的第一光源、及设于所述掩膜板左侧上方的第二光源；所述第一平台、第二平台均用于承载基板；所述第一光源射出的光线穿过所述掩膜板射到所述第一平台；所述第二光源射出的光线穿过所述掩膜板射到所述第二平台；由于该曝光设备具有两个光源，使用该曝光设备进行曝光时，通过合理设置光路，便能够达到一个曝光腔内用一张掩膜板同时曝光两块基板的目的，从而能够提高产能，节省掩膜板。 | ||
| 申请公布号 | CN106527055A | 申请公布日期 | 2017.03.22 |
| 申请号 | CN201611179593.8 | 申请日期 | 2016.12.19 |
| 申请人 | 武汉华星光电技术有限公司 | 发明人 | 朱美娜 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人 | 林才桂 |
| 主权项 | 一种曝光设备，其特征在于，包括一掩膜板(110)、设于所述掩膜板(110)左侧下方的第一平台(121)、设于所述掩膜板(110)右侧下方的第二平台(122)、设于所述掩膜板(110)右侧上方的第一光源(131)、及设于所述掩膜板(110)左侧上方的第二光源(132)；所述第一平台(121)、第二平台(122)均用于承载基板(200)；所述第一光源(131)射出的光线穿过所述掩膜板(110)射到所述第一平台(121)；所述第二光源(132)射出的光线穿过所述掩膜板(110)射到所述第二平台(122)。 | ||
| 地址 | 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 | ||