| 发明名称 | 低摩擦构件、图像形成装置和低摩擦覆膜形成剂 | ||
| 摘要 | 本发明的课题是提供即使较长期使用也不容易失去低摩擦性的低摩擦构件。本发明所涉及的低摩擦构件LS至少由润滑性材料PL、PS和聚酰亚胺树脂MR形成。并且，其表面粗糙度Rsk为0.500以上，润滑性材料的表面露出率为15.0％以上。另外，表面粗糙度Rsk在0.0900以上且0.1400以下的范围内，并且，特别优选润滑性材料的表面露出率为35.0％以上。润滑性材料优选为氟树脂。并且，该低摩擦构件具有即使较长期使用也不容易失去低摩擦性的特性。 | ||
| 申请公布号 | CN106537259A | 申请公布日期 | 2017.03.22 |
| 申请号 | CN201580037054.8 | 申请日期 | 2015.08.07 |
| 申请人 | 株式会社I.S.T | 发明人 | 辻川一辉;柏昌彰 |
| 分类号 | G03G15/20(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I;B32B27/34(2006.01)I;C10M107/38(2006.01)I;F16C33/20(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人 | 张淑珍;王维玉 |
| 主权项 | 低摩擦构件，至少由润滑性材料和聚酰亚胺树脂形成，表面粗糙度Rsk为0.500以上，且前述润滑性材料的表面露出率为15.0％以上。 | ||
| 地址 | 日本滋贺县 | ||