| 摘要 |
【課題】高精度なパターンを容易に形成可能なマスク及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】実施形態によれば、基板と、第１、第２パターン部と、を含むマスクが提供される。基板は、第１面を含む。第１パターン部は、複数の第１光学部材を含む。複数の第１光学部材は、第１面に設けられ、第１面に沿う第１方向に並ぶ。複数の第１光学部材の光透過率は、基板の光透過率よりも低い。隣り合う２つの第１光学部材の間の距離は、第１距離である。第２パターン部は、複数の第２光学部材を含む。複数の第２光学部材は、第１面に設けられ、第１方向に並ぶ。複数の第２光学部材の光透過率は、基板の光透過率よりも低い。隣り合う２つの第２光学部材の間の距離は、第１距離とは異なる第２距離である。第１光が前記第１パターン部に入射し第１パターン部を透過する光の第１位相は、第１光が第２パターン部に入射し第２パターン部を透過する光の第２位相とは異なる。【選択図】図１ |
