发明名称 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
摘要 【課題】空間放射照度分布と角度放射照度分布の両方を視野依存方式で調節することができるマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系を提供する。【解決手段】光学インテグレーター60は各々が2次光源のうちの1つに関連付けられた複数の光入射ファセットを含む。空間光変調器52は光射出面57を有し入射投影光を空間分解方式で透過又は反射するように構成される。瞳形成ユニット36は投影光を空間光変調器上に向けるように構成される。対物系58は空間光変調器の光射出面57を光学インテグレーター60の光入射ファセット上に結像する。制御ユニットは瞳形成ユニット36及び空間光変調器52を制御するように構成される。光学光変調器52の光射出面は光入射ファセット上に結像されない区域によって分離された物体区域グループを含む。対物系58は物体区域の像が光学インテグレーター上に当接するように組み合わせる。【選択図】図3
申请公布号 JP2017054131(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20160210859 申请日期 2016.10.27
申请人 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 发明人 マルクス デギュンター;ヴラディミール ダヴィデンコ;トマス コルブ;フランク シュレゼナー;シュテファニー ヒルト;ヴォルフガング ヒッジール
分类号 G03F7/20;G02B19/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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