欠陥検査方法及び欠陥検査装置

摘要

【課題】検出精度が高い欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。【解決手段】実施形態に係る欠陥検査方法は、基板、前記基板上に設けられ第１材料を含む第１層及び第２材料を含む第２層が積層された第１のライン状部分、並びに、前記基板上に設けられ前記第１のライン状部分から離隔し前記第１材料を含む第１層及び前記第２材料を含む第２層が積層された第２のライン状部分を含むＥＵＶマスクに対して、前記基板の下面側から遠紫外線を照射して、その反射光を検出する工程を備える。【選択図】図３