紫外線透過性基板の洗浄装置及び洗浄方法

摘要

実施形態の紫外線透過性基板の洗浄装置は、基板の洗浄面にオゾン水を供給するオゾン水供給部と、前記基板の洗浄面にオゾン水が供給された状態で前記基板の洗浄面と反対側の面に２５０〜２６０ｎｍの波長を含む紫外線を照射する紫外線照射部とを備える。