发明名称 |
一种光隔离器 |
摘要 |
本发明提供了一种光隔离器,所述光隔离器包括金属薄膜,所述金属薄膜包括相对的第一表面和第二表面,在金属薄膜上设置有至少一个狭缝和至少一个第一凹槽,第一凹槽设置在第一表面上,且第一凹槽和至少一个狭缝之间具有第一预设距离,其中当预设波长的光从第一表面入射时,第一凹槽激发的表面等离子体和与其具有第一预设距离的狭缝激发的表面等离子体能够发生干涉,以削弱由狭缝透射的光。本发明所提供的光隔离器,通过在金属薄膜上设置狭缝和凹槽,基于表面等离子体和光子的相互作用,通过对金属薄膜上的狭缝和凹槽进行优化设计,能突破衍射极限的限制,实现在纳米尺度对预设波长的光单向导通。 |
申请公布号 |
CN106501887A |
申请公布日期 |
2017.03.15 |
申请号 |
CN201710001478.X |
申请日期 |
2017.01.03 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
许哲涛;苏文刚;刘磊 |
分类号 |
G02B5/00(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
许静;刘伟 |
主权项 |
一种光隔离器,用于对预设波长的光进行单向透光;其特征在于,所述光隔离器包括金属薄膜,所述金属薄膜包括相对的第一表面和第二表面,在所述金属薄膜上设置有至少一个狭缝和至少一个第一凹槽,所述第一凹槽设置在所述第一表面上,且所述第一凹槽和至少一个狭缝之间具有第一预设距离,其中当所述预设波长的光从所述第一表面入射时,所述第一凹槽激发的表面等离子体和与其具有所述第一预设距离的狭缝激发的表面等离子体能够发生干涉,以削弱由所述狭缝透射的光。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |