| 发明名称 | 一种适用于3D打印的光敏材料及其制备工艺 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种适用于3D打印的光敏材料及其制备工艺，光敏材料由烷基氯硅烷、烷基硅氧烷、交联剂、催化剂组成；制备工艺：真空条件下，将烷基氯硅烷和烷基硅氧烷溶解于有机溶剂中，搅拌处理30min～60min，得到均质溶液；将交联剂加入到均质溶液中，反应20min～50min，使交联剂完全溶解，然后加入催化剂，得到前驱物溶液；将前驱物溶液保温4h～6h，经减压蒸发，所得粉体即为适用于3D打印的光敏材料。本发明以不同硅烷体系为主体的3D打印光敏材料，制备得到的3D打印材料具有良好的环境适应能力和良好应用潜力。 | ||
| 申请公布号 | CN106496560A | 申请公布日期 | 2017.03.15 |
| 申请号 | CN201610898411.6 | 申请日期 | 2016.10.14 |
| 申请人 | 德施普科技发展温州有限公司 | 发明人 | 陈海燕;邵永奇 |
| 分类号 | C08G77/04(2006.01)I;C08G77/24(2006.01)I | 主分类号 | C08G77/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京富天文博兴知识产权代理事务所(普通合伙) 11272 | 代理人 | 刘寿椿 |
| 主权项 | 一种适用于3D打印的光敏材料，其特征在于，所述光敏材料由以下质量百分数的原料组成：烷基氯硅烷35％～45％，烷基硅氧烷40％～50％，交联剂5％～15％，催化剂2％～5％；其中，所述烷基氯硅烷的结构通式为：(R)<sub>n</sub>Si(Cl)<sub>m</sub>，其中R表示饱和脂肪族烷基、苯基中的任一种或几种，n和m分别为1～3的整数，并且n+m＝4；所述烷基硅氧烷的结构通式为：[(R)<sub>x</sub>SiO]<sub>y</sub>，其中R表示饱和脂肪族烷基，x为1～3的整数，并且y为不小于2的整数。 | ||
| 地址 | 325000 浙江省温州市瓯海区东方路38号大学科技园孵化器一号楼1526室-B | ||