发明名称 |
大气等离子体化学平坦化方法及装置 |
摘要 |
本发明涉及一种大气等离子体化学平坦化方法及装置,属于机械制造技术领域。本发明为解决现有CMP等全局平坦化方法存在的如加工选择性不高、去除速率不均、清洗困难等问题。方法在大气压下激发等离子体和活性原子,通过活性原子与工件表面原子间的化学反应实现材料的去处,高处形貌的反应速率大于低处形貌的反应速率,从而实现表面的平坦化。装置的水冷电极置于成型电极上方,并共同设置于保持架内,保持架下端面设有放电挡板,保持架与台座间形成气流缓冲间隙,成型电极下端面与水冷吸附工作台上端面间形成放电间隙,射频电源通过阻抗匹配器与电极连接。本发明适用于硅晶圆、碳化硅/蓝宝石衬底、光伏电池薄膜层等的平坦化加工。 |
申请公布号 |
CN103854993B |
申请公布日期 |
2017.03.15 |
申请号 |
CN201210524790.4 |
申请日期 |
2012.12.07 |
申请人 |
哈尔滨工业大学深圳研究生院 |
发明人 |
张巨帆;李兵 |
分类号 |
H01L21/3065(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/3065(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 |
代理人 |
高占元 |
主权项 |
一种大气等离子体化学平坦化方法,其特征在于:所述方法借助于大气等离体化学平坦化装置来实现;其中,所述装置包括放电挡板(16)以及成型电极(14);所述方法在大气压下对氦气放电激发形成等离子体,通过等离子体激发四氟化碳生成活性反应原子,活性反应原子与工件表面原子发生化学反应生成气态产物,气态产物离开表面实现材料去除,工件表面上较高形貌的化学反应速率高于较低形貌的化学反应速率,由此进一步降低表面微观不平度;其中,所述放电挡板(16)的内孔形状与待加工工件一致;所述成型电极(14)下端面与工件表面平行,并将放电间隙(23)调整至预设范围,以通过过程精确控制实现化学反应在整个反应界面上的均匀推进,从而实现全局平坦化;当对局部区域进行针对性放电加工时,所述放电挡板(16)的内孔形状和尺寸与设定的放电区域的形状和尺寸相适配,且所述成型电极(14)下端面与工件表面平行,通过调整所述工件的位置使所述内孔的位置正对指定加工区域,以实现局部平坦化。 |
地址 |
518055 广东省深圳市南山区西丽深圳大学城哈工大校区 |