发明名称 |
一种光学平行平板玻璃的均匀性绝对测量方法 |
摘要 |
本发明公开了一种光学平行平板玻璃的均匀性绝对测量方法,属于光学干涉测量领域。该方法包括三个步骤:第一步、将待测光学平行平板放入测量光路,测量由光学平行平板前后表面形成的干涉腔的波面偏差;第二步、将光学平行平板放入由参考平晶工作面和反射平晶工作面构成的干涉测量腔中,测量透过上述光学平行平板后反射回来的波像差;第三步、将待测光学平行平板从干涉测量腔中移除,测量由参考平晶工作面和反射平晶工作面构成的干涉测量腔的波面偏差;然后根据三次测量结果计算待测光学平行平板的均匀性分布。本方法步骤少、操作简单、精度高,可以用于激光器工作物质、航天器窗口玻璃的光学平行平板折射率均匀性分布的高精度测量。 |
申请公布号 |
CN106501216A |
申请公布日期 |
2017.03.15 |
申请号 |
CN201611223080.2 |
申请日期 |
2016.12.27 |
申请人 |
南京理工大学 |
发明人 |
陈磊;张瑞;朱文华;韩志刚;郑东晖;孟诗;孙沁园;乌兰雅图 |
分类号 |
G01N21/45(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/45(2006.01)I |
代理机构 |
南京理工大学专利中心 32203 |
代理人 |
薛云燕 |
主权项 |
一种光学平行平板玻璃的均匀性绝对测量方法,其特征在于,该方法基于空间分光同轴斐索型同步移相干涉仪系统,在准直透镜和棋盘光栅之间加入λ/4波片,并调节λ/4波片的角度使得光源系统出射的激光为圆偏振光,具体包括以下步骤:步骤1,将待测光学平行平板放入测量光路,测量由光学平行平板前后表面形成的干涉测量腔的波面偏差;步骤2,将光学平行平板放入由参考平晶工作面和反射平晶工作面构成的干涉测量腔中,测量透过上述光学平行平板后反射回来的波像差;步骤3,将待测光学平行平板从干涉测量腔中移除,测量由参考平晶工作面和反射平晶工作面构成的干涉测量腔的波面偏差;步骤4,根据步骤1~3的测量结果,计算待测光学平行平板的均匀性分布。 |
地址 |
210094 江苏省南京市玄武区孝陵卫200号 |