| 发明名称 | 千兆声波清洗技术 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种半导体清洗系统。清洗系统包括盛有清洗溶液的腔室和千兆声波频率生成器。千兆声波频率生成器被配置为生成对应于千兆赫兹频率范围的电信号。传感器被配置为将电信号转变为通过清洗溶液传播压力和位移且在千兆赫兹频率范围内振荡的机械波。本发明还提供了半导体的声波清洗装置和方法。 | ||
| 申请公布号 | CN106505011A | 申请公布日期 | 2017.03.15 |
| 申请号 | CN201610728627.8 | 申请日期 | 2016.08.26 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 张简瑛雪;杨棋铭 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;李伟 |
| 主权项 | 一种半导体清洗系统，包括：腔室，盛有清洗溶液；千兆声波频率生成器，被配置为生成对应于千兆赫兹频率范围的电信号；以及传感器，被配置为将所述电信号转变为通过所述清洗溶液传播压力和位移且在所述千兆赫兹频率范围内振荡的机械波。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||