| 发明名称 | 磁化处理装置和磁化处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种磁化处理装置和磁化处理方法。本实施方式的磁化处理装置具有：载置台，其用于对收纳有多个基板的收纳容器进行载置；磁化处理室，其能够收容所述收纳容器，用于对所述收纳容器内的所述多个基板施加磁场；输送机构，其能够从所述载置台向所述磁化处理室内输送所述收纳容器。 | ||
| 申请公布号 | CN106486597A | 申请公布日期 | 2017.03.08 |
| 申请号 | CN201610740527.7 | 申请日期 | 2016.08.26 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 榎本忠;斋藤诚 |
| 分类号 | H01L43/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L43/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种磁化处理装置，其具有：载置台，其用于对收纳有多个基板的收纳容器进行载置；磁化处理室，其能够收容所述收纳容器，用于对所述收纳容器内的所述多个基板施加磁场；以及输送机构，其能够从所述载置台向所述磁化处理室内输送所述收纳容器。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||