发明名称 シリコンターゲット構造体の製造方法およびシリコンターゲット構造体
摘要 本発明のシリコンターゲット構造体の製造方法では、シリコンターゲットの接合面にAg膜を形成し、前記Ag膜と銅バッキングプレートの間にインジウムはんだを介在させて前記シリコンターゲットを前記銅バッキングプレートと一体にし、前記インジウムはんだを加熱溶融して前記シリコンターゲットを前記銅バッキングプレートに接合することによって、前記シリコンターゲットが前記銅バッキングプレートに一体に接合された構造体を製造する。
申请公布号 JPWO2015008864(A1) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20150527349 申请日期 2014.07.18
申请人 三菱マテリアル電子化成株式会社 发明人 続橋 浩司;池田 洋;安川 隆昌;金井 昌弘
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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