发明名称 |
ショットキーバリアダイオード |
摘要 |
【課題】耐圧特性及びリーク特性に優れる、Ga2O3系のショットキーバリアダイオードを提供する。【解決手段】一実施の形態として、n型の第1のGa2O3系単結晶からなる第1の層10と、n型の第2のGa2O3系単結晶からなり、第1の層10よりも実効ドナー濃度が低い第2の層11と、開口部12aを有する絶縁層12と、絶縁層12の開口部12a内で第2の層11にショットキー接触し、かつ絶縁層12の開口部12a周辺の領域に乗り上げたフィールドプレート13aを有するアノード電極13と、カソード電極14と、を有し、第2の層11の実効ドナー濃度が1.4×1016cm−3以下であり、フィールドプレート13aの長さが10μm以上であり、600V以上の耐圧を有する、ショットキーバリアダイオードを提供する。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP2017045969(A) |
申请公布日期 |
2017.03.02 |
申请号 |
JP20150169847 |
申请日期 |
2015.08.28 |
申请人 |
株式会社タムラ製作所;国立研究開発法人情報通信研究機構;国立大学法人東京農工大学 |
发明人 |
佐々木 公平;後藤 健;東脇 正高;熊谷 義直;村上 尚 |
分类号 |
H01L29/872;H01L21/329;H01L29/06;H01L29/24;H01L29/41;H01L29/47 |
主分类号 |
H01L29/872 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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