| 摘要 |
半導体産業等で使用されるトリクロロシラン気化供給装置を提供する。本発明のトリクロロシラン気化供給装置は、キャリアガスとなる水素ガスの導入口３を具備し、液体トリクロロシランを蒸発させるための加熱手段１６を有する蒸発器１と、蒸発したトリクロロシランガスの持つ蒸気圧より低い飽和蒸気圧に対応する温度で凝縮させるための冷却手段２０を有する凝縮器２と、前記凝縮器の精密温度制御機構と精密圧力調整機構５とを具備する連続蒸留式トリクロロシラン気化供給装置において、蒸発器の中心線と凝縮器の中心線が同一線上になく、且つ凝縮器下端が蒸発器下端と管１３、１４でもって連通する構造を有している。また、その制御においては、濃度調整されたトリクロロシラン・水素混合ガス総送気流量と蒸発器内の液体トリクロロシラン１７温度とを比例連動させている。 |
