发明名称 半導体装置およびその作製方法
摘要 【課題】微細なトランジスタを提供する。または、寄生容量の小さいトランジスタを提供する。または、周波数特性の高いトランジスタを提供する。またはオン電流の大きなトランジスタを提供する。または、該トランジスタを有する半導体装置を提供する。または、集積度の高い半導体装置を提供する。【解決手段】酸化物半導体と、第2の絶縁体と、第2の導電体と、第3の導電体と、第4の導電体と、第5の導電体と、を有し、第2の絶縁体、第2の導電体、第3の導電体、第4の導電体および第5の導電体からなる開口部に埋め込まれた第1の導電体および第1の絶縁体を有し、第2の導電体は、第2の導電体の側面および第2の導電体の底面と、第4の導電体と、が接する領域を有し、第3の導電体は、第3の導電体の側面および第3の導電体の底面と、第5の導電体と、が接する領域を有する半導体装置。【選択図】図1
申请公布号 JP2017045989(A) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20160163449 申请日期 2016.08.24
申请人 株式会社半導体エネルギー研究所 发明人 笹川 慎也;浜田 崇;下村 明久;岡本 悟;栃林 克明
分类号 H01L29/786;G09F9/00;G09F9/30;H01L21/8234;H01L21/8238;H01L21/8242;H01L27/088;H01L27/092;H01L27/108;H01L27/146;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/14 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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