基板处理装置

摘要

基板处理装置具有腔室、基板保持部、基板旋转机构、受液部及上下喷嘴。腔室具有腔室主体和腔室盖部，并且腔室盖部能够进行升降。在腔室盖部与腔室主体相接触的状态下，形成小的密闭空间，并且进行伴随着减压或者加压进行的处理。当腔室盖部上升时，在腔室盖部和腔室主体之间形成环状开口。第一罩部以及第二罩部位于环状开口的外侧。从基板飞散的处理液被第一罩部或者第二罩部接受。在基板处理装置中，能够在小的腔室内进行各种处理。

主权项

一种基板处理装置，用于处理基板，其特征在于，具有：腔室，其形成密闭的内部空间；腔室开闭机构，其使包括所述腔室的上部或者下部的腔室活动部相对于所述腔室的其它部位进行升降，通过使所述腔室活动部与所述其它部位接触，形成所述内部空间；基板保持部，其配置在所述腔室内，且以水平状态保持基板；基板旋转机构，其使所述基板与所述基板保持部一起以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转；处理液供给部，其向所述基板的上表面或者下表面供给处理液；罩部，其位于通过使所述腔室活动部移动使所述腔室活动部与所述其它部位分离而形成在所述基板的周围且处于所述腔室活动部与所述其它部位之间的环状开口的径向外侧，并接受从旋转的所述基板经由所述环状开口飞散的处理液。