PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING A MEASURING SYSTEM FOR MEASURING AN OPTICAL ELEMENT

摘要

본원 발명의 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치(10)는 투영 노광 장치의 광학 요소를 측정하기 위한 측정 시스템(50)을 포함한다. 측정 시스템(50)은 광학 요소(20) 상에 상이한 방향(64)으로 측정 방사(62)를 조사하여 측정 방사(62)가 상이한 입사 방향(64)에 대해 광학 요소(20) 내에서 개별적인 광학 경로 길이(68)를 커버하도록 구성되는 조사 장치(54)와, 개별적인 입사 방향(64)에 대해 광학 요소(20) 내의 측정 방사(62)에 의해 커버되는 대응하는 광학 경로 길이를 측정하도록 구성되는 검출 장치(56)와, 개별적인 입사 방향을 고려하여 측정된 경로 길이의 컴퓨터-단층촬영 역 투영에 의해 광학 요소(20) 내의 굴절률의 공간적으로 분해된 분포를 결정하도록 구성되는 평가 장치를 포함한다.