发明名称 酸化ビスマス系レーザーマーキング用添加剤
摘要 本発明は、一般式Bi2O(3−x)(ただし、xは0.01以上で且つ0.3以下であり、xは、X線光電子分光法により得られるビスマスの4f電子に帰属されるピークの面積に対する、ビスマスと結合している酸素の1s電子に帰属されるピークの面積の比(O1s/Bi4f)から、x=3−O1s/Bi4f×2に従って算出される酸素欠陥量を示す)で表される酸素欠陥型酸化ビスマスからなる酸化ビスマス系レーザーマーキング用添加剤であって、使用する樹脂の種類や形状に関係なく、樹脂組成物に望ましくない着色を起こさず、且つ黒度とコントラストに優れたマーキングを可能にする。
申请公布号 JPWO2014188828(A1) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20150518159 申请日期 2014.04.17
申请人 東罐マテリアル・テクノロジー株式会社 发明人 的田 達郎;鈴木 滋;新地 岳人;石河 明
分类号 C01G29/00;B23K26/00;B23K26/18;C09D11/00;C09D201/00 主分类号 C01G29/00
代理机构 代理人
主权项
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