发明名称 |
半導体装置及び表示装置 |
摘要 |
【課題】動作特性に優れ低温で製造可能な酸化物半導体を用いた表示装置の特性を活かすには、適切な構成を備え、占有面積が小さい保護回路等が必要となる。【解決手段】ゲート電極111を被覆するゲート絶縁膜102と、ゲート絶縁膜上においてゲート電極と端部が重畳する第1配線層117a及び第2配線層117bと、少なくともゲート電極111と重畳しゲート絶縁膜及び該第1配線層及び該第2配線層における導電層の側面部及び上面部と接する酸化物半導体層113とを有する非線形素子170aを用いて保護回路を構成する。非線形素子のゲート電極は走査線13又は信号線と接続され、非線形素子の第1配線層又は第2配線層がゲート電極の電位が印加されるようにゲート電極層と直接接続されていることで、接続抵抗の低減による安定動作と接続部分の占有面積を縮小する。【選択図】図5 |
申请公布号 |
JP2017041639(A) |
申请公布日期 |
2017.02.23 |
申请号 |
JP20160180092 |
申请日期 |
2016.09.15 |
申请人 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
发明人 |
山崎 舜平;秋元 健吾;小森 茂樹;魚地 秀貴;二村 智哉;笠原 崇廣 |
分类号 |
H01L21/822;G02F1/133;G02F1/1368;H01L21/336;H01L21/8236;H01L27/04;H01L27/06;H01L27/088;H01L29/786;H01L51/50;H05B33/14 |
主分类号 |
H01L21/822 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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