| 发明名称 | 氧化物溅射靶材 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种氧化物溅射靶材，其能够抑制由氧化物溅射靶材的焊接作业工序、溅射工序中的热处理导致的裂纹的产生。一种氧化物溅射靶材，其金属成分具有如下组成：含有20～50原子％的Sn、余量由Zn和不可避免的杂质组成，22℃～400℃下的断裂弯曲应变为0.24％以上、或200℃下的抗弯强度为130MPa以上，相对密度的平均值优选为98.5％以上，其离散度更优选为0.3％以下。 | ||
| 申请公布号 | CN106435492A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201610653744.2 | 申请日期 | 2016.08.10 |
| 申请人 | 日立金属株式会社 | 发明人 | 玉田悠;齐藤和也;上坂修治郎;熊谷友正 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种氧化物溅射靶材，其特征在于，其金属成分具有如下组成：含有20～50原子％的Sn、余量由Zn和不可避免的杂质组成，22℃～400℃下的断裂弯曲应变为0.24％以上。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||