发明名称 表面处理荧光体的制造方法、表面处理荧光体、波长转换部件以及发光装置
摘要 一种表面处理荧光体的制造方法为含有碱土类金属的硅酸盐的碱土类硅酸盐荧光体的表面被表面处理层覆盖的表面处理荧光体的制造方法。表面处理荧光体的制造方法包括:通过使碱土类硅酸盐荧光体与经熔融或热分解的表面处理物质接触,在碱土类硅酸盐荧光体的表面上形成表面处理层的表面处理。表面处理物质为选自硫酸盐、磷酸盐、碳酸盐、硼酸盐、硼酸、钛酸盐以及氟化物中的至少1种。
申请公布号 CN106459750A 申请公布日期 2017.02.22
申请号 CN201580032065.7 申请日期 2015.06.18
申请人 松下知识产权经营株式会社 发明人 柴本真治;大盐祥三;山崎圭一;宫崎惠美;文菂
分类号 C09K11/08(2006.01)I;C09K11/59(2006.01)I;H01L33/50(2006.01)I 主分类号 C09K11/08(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 白丽
主权项 一种表面处理荧光体的制造方法,其为含有碱土类金属的硅酸盐的碱土类硅酸盐荧光体的表面被表面处理层覆盖的表面处理荧光体的制造方法,该制造方法包括:通过使所述碱土类硅酸盐荧光体与经熔融或热分解的表面处理物质接触,在所述碱土类硅酸盐荧光体的表面上形成所述表面处理层的表面处理,所述表面处理物质为选自硫酸盐、磷酸盐、碳酸盐、硼酸盐、硼酸、钛酸盐以及氟化物中至少1种。
地址 日本大阪府