发明名称 |
IN-LINE WAFER EDGE INSPECTION WAFER PRE-ALIGNMENT AND WAFER CLEANING |
摘要 |
반도체 웨이퍼를 검사 및 처리하는 방법 및 시스템이 개시된다. 시스템은 포토리소그래피 처리를 받아야 하는 각 웨이퍼를 수납하는 에지 검출 시스템을 포함한다. 이 에지 검출 시스템은 웨이퍼의 테두리 영역 내에 있는 측부, 상부 및 하부 에지부를 향하여 하나 이상의 조명 빔을 지향시키는 조명 채널을 포함한다. 상기 에지 검출 시스템은 또한 웨이퍼의 에지부로부터 산란 또는 반사된 출력 복사선을 수집 및 감지하는 수집 모듈과, 상기 에지부에서 결함을 찾아내고 각 웨이퍼가 상기 웨이퍼에 대한 감지된 출력 복사선에 기초하여 사양 내에 있는지를 결정하는 분석 모듈을 포함한다. 포토리소그래피 시스템은 사양 내에 있는 것으로 밝혀진 각 웨이퍼를 상기 에지 검출 시스템으로부터 수납하도록 구성된다. 에지 검출 시스템은 포토리소그래피 시스템과 일렬로 결합된다. |
申请公布号 |
KR20170020453(A) |
申请公布日期 |
2017.02.22 |
申请号 |
KR20177001188 |
申请日期 |
2015.06.19 |
申请人 |
케이엘에이-텐코 코포레이션 |
发明人 |
니콜라이데스 레나;차이 벤 밍 벤자민;아지 프라샨트 에이.;가스보다 마이클;스토코브스키 스탠리 이.;자오 구오헝;웬 유셴;마하데반 모한;호른 폴 디.;볼라트 볼프강 |
分类号 |
H01L21/66;G01N21/95;H01L21/02;H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/66 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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